Effect of device parameters on transmission coefficient of Al₀.₃Ga₀.₈N/GaN Resonant Tunneling Diode grown on silicon substrate
Link to publisher's homepage at http://ijneam.unimap.edu.my/
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Chowdhury, Subhra, Biswas, Dhrubes |
---|---|
مؤلفون آخرون: | subhrachowdhury1987@gmail.com |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
Universiti Malaysia Perlis
2016
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.unimap.edu.my:80/xmlui/handle/123456789/41289 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
The role of selective pattern etching to improve the Ohmic contact resistance and device performance of AlGaN/GaN HEMTs
بواسطة: A., Dhongde, وآخرون
منشور في: (2022) -
Investigation of plasma induced etch damage/changes in AlGaN/GaN HEMTs
بواسطة: A., Ofiare, وآخرون
منشور في: (2022) -
Optical properties of GaN nanostructures for optoelectronic applications
بواسطة: Yarub, Al-Douri, Assoc. Prof. Dr.
منشور في: (2014) -
Optical properties of GaN nanostructures for optoelectronic applications
بواسطة: Yarub, Al-Douri, Prof. Dr.
منشور في: (2013) -
Nano and micro porous GaN characterization using image processing method
بواسطة: Ahmed, Naser Mahmoud, وآخرون
منشور في: (2012)