コメント: Study of the thickness of the Silicon Dioxide on wafer using Dry and Wet Oxidation method

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書誌詳細
第一著者:	Mohamad Fadzli Ali
その他の著者:	Ruslinda A. Rahim (Advisor)
フォーマット:	Learning Object
言語:	English
出版事項:	Universiti Malaysia Perlis 2008
主題:	Silicon > Oxidation Thin films Semiconductors Silicon oxide Integrated circuits Oxidation
オンライン･アクセス:	http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/1994
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