Mask design for the reproducible fabrication and reliable pattern transfer for polysilicon nanowire
Link to publisher's homepage at http://ieeexplore.ieee.org/
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Working Paper |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
2013
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/22907 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|