その他の書誌記述: Mask design for the reproducible fabrication and reliable pattern transfer for polysilicon nanowire

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書誌詳細
主要な著者:	Tijjani Adam, Shuwa, Uda, Hashim, Prof. Dr., Leow, Pei Ling
その他の著者:	tijjaniadam@yahoo.com
フォーマット:	Working Paper
言語:	English
出版事項:	Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) 2013
主題:	Alignment Critical dimension Fabrication Nanowire Pattern transfer Precision Repeatability and reliability
オンライン･アクセス:	http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/22907
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