Reactive Ion Etching (RIE) Etched Wet-Silica-On-Silicon Analysis for Fluid Wettability
RIE etched wet silica-on-silicon analysis is more to surface roughness analysis which analysis on silica substrate after plasma etching especially on de-ionized water droplets testing for fluid wettability scope. The thick oxide is needed for RIE purpose and characterized the etching and surface pr...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Noor Aini Hamimah Abd. Rahim |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Prabakaran Poopalan, Assoc. Prof. Dr. (Advisor) |
التنسيق: | Learning Object |
اللغة: | English |
منشور في: |
Universiti Malaysia Perlis
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/1333 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Surface roughness and wettability correlation on etched platinum using reactive ion ecthing
بواسطة: Zaliman, Sauli, Dr., وآخرون
منشور في: (2014) -
Surface roughness analysis on reactive ion etched aluminium deposited wafer
بواسطة: Zaliman, Sauli, Dr., وآخرون
منشور في: (2014) -
Silica microchannel fabrication using fluorine based rie with alas a mask
بواسطة: Wan Mokhzani, Wan Norhaimi, وآخرون
منشور في: (2013) -
Interaction relationship analysis of surface roughness on aluminium etched wafer using RIE
بواسطة: Zaliman, Sauli, Dr., وآخرون
منشور في: (2014) -
Investigation of surface roughness on platinum deposited wafer after reactive ion etching using SF₆+Argon gaseous
بواسطة: Zaliman, Sauli, Dr., وآخرون
منشور في: (2014)