Structural characteristics of samarium oxynitride on silicon substrate

Thermal oxynitridation of 20 nm sputtered pure samarium metal film on silicon substrates were carried out in nitrous oxide gas ambient at various temperatures (600–900 °C) for 15 min. Influences of the oxynitridation temperature on the structural and chemical properties of the SmxOyNz films had been...

詳細記述

保存先:
書誌詳細
主要な著者: Goh, K.H., Haseeb, A.S. Md. Abdul, Wong, Y.H.
フォーマット: 論文
出版事項: Elsevier 2017
主題:
オンライン・アクセス:http://eprints.um.edu.my/17554/
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2017.06.179
タグ: タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!

類似資料