Investigation of surface roughness on platinum deposited wafer after reactive ion etching using SF₆+Argon gaseous

• المؤلفون الرئيسيون: Zaliman, Sauli, Dr., Retnasamy, Vithyacharan, Aaron, Koay Terr Yeow, Siew Chui, Goh, Khairul Anwar, Mohamad Khazali, Nooraihan, Abdullah
• مؤلفون آخرون: [e-mail]
• التنسيق: مقال
• اللغة: English
• منشور في: Trans Tech Publications 2014
• الموضوعات: DOE; Platinum; Reactive Ion Etching (RIE); SF₆+Argon; Surface roughness
• الوصول للمادة أونلاين: http://dspace.unimap.edu.my:80/dspace/handle/123456789/33656

Link to publisher's homepage at http://www.ttp.net/