Effect of alignment mark architecture on alignment signal behavior in advanced lithography

• المؤلفون الرئيسيون: Normah, Ahmad, Uda, Hashim, Mohd Jeffery, Manaf, Kader Ibrahim, Abdul Wahab
• التنسيق: مقال
• اللغة: English
• منشور في: Universiti Malaya 2009
• الموضوعات: Alignment mark; Alignment signal; Lithography; Lithography > Technique; Metal mark; Deposition
• الوصول للمادة أونلاين: http://dspace.unimap.edu.my/xmlui/handle/123456789/6836

Link to publisher's homepage at http://ejum.fsktm.um.edu.my