Microstructural and optical properties of ZrON/Si thin films
ZrON/Si(100) layer structure formation has been produced by oxidation/nitridation of sputtered Zr metal in N2O/Ar ambient at 500–900 °C. Micromorphology and structural properties of the films have been evaluated by scanning electron microscopy, atomic force microscopy, and reflection high-energy ele...
保存先:
主要な著者: | , , , |
---|---|
フォーマット: | 論文 |
出版事項: |
Elsevier
2013
|
主題: | |
オンライン・アクセス: | http://eprints.um.edu.my/13006/ http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167577X13004291 http://dx.doi.org/10.1016/j.matlet.2013.03.100 |
タグ: |
タグ追加
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
このレコードへの初めてのコメントを付けませんか!