Development of low normal force contact with stable performance

• Main Author: Bhuiyan, Moinul
• Format: Conference or Workshop Item
• Language: English; English
• Published: 2010
• Subjects: TA401 Materials of engineering and construction
• Online Access: http://irep.iium.edu.my/33192/1/Development_of_low_normal_force_contact_with_stable_performance.pdf; http://irep.iium.edu.my/33192/4/12._TE_Award_2010_%28Dr_Moinul_Bhuiyan%29.jpg; http://irep.iium.edu.my/33192/; http://www.te.com/japan/corp/office/index.html

製品の極小化が進むに従い、コネクタ端子の寸法も小さくする必要がでてきた。 しかし、それでは端子の接圧が下がってしまい、コネクタのコンタクトとして不安定な接点となるため、既存の技術では打開できない接触不安定の問題を抱えていた。我々はその問題を打開するため、今まで培ってきた高ハーツストレスの原理を極小コネクタに応用することを検討した。ハーツストレスを高くするため、コンタクトの先端を鋭くする必要があり、従来のスタンピング 技術ではR50mm が限界となっていたが、我々はスクライビングと言う斬新な技術を適応することで今までにできなかった先端R5mm の突起を作ることに成功した。 これにより、ハーツストレスが従来と比べ5 倍も高くなり、僅か0.2N の低荷重でも安定した電気的接続信頼性が得られることが判明した。更に、実際のコネクタと同等の条件にて接触抵抗を測定したところ非常に安定しており、挿抜試験においてもバラツキは ± 5mΩ以内であった。この研究により、量産性のある製造技術で微小突起をコンタクト接触部に付加することで、従来では困難であった極小コネクタを実現できることが確認できた。更に、DDR コネクタなどの従来のコネクタにも本技術を適応することにより、一括挿入が可能となるため、大幅なコスト削減が可能となる。