Salehuddin, F. (2017). Characterization and optimizations of silicide thickness in 45nm pMOS device.
استشهاد بنمط شيكاغوSalehuddin, F. Characterization and Optimizations of Silicide Thickness in 45nm PMOS Device. 2017.
MLA استشهادSalehuddin, F. Characterization and Optimizations of Silicide Thickness in 45nm PMOS Device. 2017.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.