Effects of annealing on the electro-optical properties of a-Si:H thin films deposited by D.C. and pulsed PECVD

Hydrogenated amorphous silicon thin films studied in this work were prepared by d.c. and pulsed PECVD technique at a fixe d silane flow-rates of 10 sc cm and 40 sccm. The deposition temperature, pressure and power were fixed at 200 degree Celsius, 0.45 mbar and 1.4 W respectively. The pulsed PECVD s...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Seck, Chai Lim, Boon, Tong Goh, Abdul, Rahman Saadah
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2004
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://eprints.um.edu.my/7345/1/Effects_of_annealing_on_the_electro-optical_properties_of_a-SiH_thin_films_deposited_by_D.C._and_pulsed_PECVD.pdf
http://eprints.um.edu.my/7345/
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!